平面研磨機(jī)在進(jìn)行工作的時(shí)候，需要使研磨液注入到加工其余才能達(dá)到溫度的降低，由于研磨液所具有潤(rùn)滑、冷卻的作用，需要改善砂輪出現(xiàn)磨損、堵塞以及工件表面加工精度，具有對(duì)人體無(wú)害，無(wú)刺激、不發(fā)臭、不發(fā)霉便于存儲(chǔ)、使用方便等優(yōu)點(diǎn)，隨著工件表面完整性需要提出更多的要求，使其工件性能得到改善和提高。 
    工件表面不平滑那就直接影響后面工藝，那我們先處理工件平整表面整度后，才能進(jìn)入一下個(gè)工藝，而后CMP拋光、噴砂與電鍍的時(shí)候讓產(chǎn)品更加完美無(wú)缺。那么首先我們要了解產(chǎn)品的以下幾點(diǎn)：

 

　　1、處理產(chǎn)品的材質(zhì)。

 

　　2、處理產(chǎn)品的形狀。

 

　　3、處理的產(chǎn)品的大小(根據(jù)產(chǎn)品不同可以選擇不同的平整度工藝來(lái)實(shí)現(xiàn)成本及可操作性的控制)

 

　　4、要達(dá)到的是什么樣的平整效果

 

　　5、你的使用環(huán)境，和使用要求(直接用表面還是在其他什么環(huán)境下使用)

 

目前常用的產(chǎn)品平整度方法有以下幾種：

 

　　1.機(jī)械處理機(jī)械處理是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用拋光液、研磨液等。

 

　　2.CMP化學(xué)拋光化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備，可以拋光形狀復(fù)雜的工件，可以同時(shí)拋光很多工件，效率高。化學(xué)拋光的核心問(wèn)題是拋光液和研磨液的配制。